表面形貌与纹理
每个界面的表面形貌（即纹理）可以在若干选项中进行选择。下图给出了所有非平面选项的示意图，图中显示的是在整个界面 x 和 y 方向上周期重复的几何单元。用户需要设置表面特征的角度 以及高度 或特征宽度。
需要注意：(i) V 形槽（V groove）在所选方向（x 或 y）上跨越整个界面；(ii) 角锥单元（corner cube）是 DSM“光俘获膜”的基础结构，其 固定且单元格为规则六边形。
正立金字塔（Upright pyramid）
倒立金字塔（Inverted pyramid）
正立 V 形槽（Upright V groove）
倒立 V 形槽（Inverted V groove）
正立球冠（Upright spherical cap）
倒立球冠（Inverted spherical cap）
正立圆锥（Upright cone）
倒立圆锥（Inverted cone）
正立角锥（Upright corner cube）
倒立角锥（Inverted corner cube）
上面的图像展示的是位于太阳能电池中心“之上”的界面的垂直方向定义。
对于位于电池中心“之下”的界面，其形貌方向相反。也就是说，在电池中心以下的表面上，纹理被视为上下翻转。
程序提供 ‘random’（随机）和 ‘regular’（规则）两种表面形貌选项（即纹理）。这有助于模拟例如工业单晶硅电池正面覆盖的“随机”金字塔，或高效实验室 PERL 电池中使用的“规则”倒金字塔等结构。
下图说明了在本程序中，“随机”形貌是如何影响光线传播的。
形貌的最基本几何单元（例如单个金字塔或单个槽）由其单元格（unit cell）的边界平面所限定。与单元格侧壁相交的光线会被传播到相邻单元格中；而与单元格底面（或顶面）相交的光线则被传播到特征下方（或上方）的层中。例如，这可以表示光线从具有纹理的硅片表面区域传播到硅片体内。
下面的图像展示了在选择“随机”形貌时，这种传播是如何实现的。图中分别示意光线与单元格的 (i) 侧壁和 (ii) 底面相交的情况。当光线与这些边界平面之一相交时，会在该边界上重新分配一个随机位置，然后以相同的传播角度，从该边界上对应位置进入相邻单元格（或相邻层）。因此，纹理单元之间只是相对平移，而不会发生旋转。
光线与金字塔单元格侧壁相交
Section titled “光线与金字塔单元格侧壁相交”
光线与金字塔单元格底面相交
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